| 发明名称 | 涂胶显影机清洁装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种涂胶显影机清洁装置，包括顶层基架，滑板以及底部基板，所述顶层基架固定在显影机的机台上，所述顶层基架上设有若干通孔，两侧分别设有折弯部；所述底部基板的表面上分布有若干风扇，在风扇位置处设有相应的开口，所述底部基板与所述折弯部连接；所述滑板位于所述底部基板和顶层基架形成的收容空间内，所述滑板上设有开孔，所述通孔与所述开孔位置相对应，固定在所述底部基板上的风扇与所述通孔的位置相对应。通过在涂胶显影机上增加了涂胶显影机杂质清洁装置，启动涂胶显影机杂质清洁装置上的风扇旋转，将涂胶杂质抽出至外部环境，避免了污染，使得后续的刻蚀和沉积工艺中造成的球状缺陷得以克服，提高产品良率，节省成本。 | ||
| 申请公布号 | CN201392817Y | 申请公布日期 | 2010.01.27 |
| 申请号 | CN200920070373.0 | 申请日期 | 2009.04.14 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 张建峰;蔡奇澄;张书庆;张健;卢健;王军 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;B08B15/04(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 屈 蘅;李时云 |
| 主权项 | 1.涂胶显影机清洁装置，包括顶层基架，滑板以及底部基板，所述顶层基架固定在显影机的机台上，其特征在于：所述顶层基架上设有若干通孔，两侧分别设有折弯部；所述底部基板的表面上分布有若干风扇，在所述风扇位置处设有相应的开口，所述底部基板与所述折弯部连接；所述滑板位于所述底部基板和顶层基架形成的收容空间内，所述滑板上设有开孔。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江路18号 | ||