光罩基板及其制造方法

摘要

明之课题在于提供翘曲很小而在光罩制造步骤结束后之翘曲变化量也很小的光罩基板。
本发明之解决手段系在制造对曝光光线为透明的基板上被形成至少包含1种机能性透明膜的层积体之光罩基板时，在基板上形成至少1种机能性透明膜的步骤，该机能性透明膜在基板上之翘曲量的绝对值成为0.1μm以上的场合施以闪光照射处理的步骤，以及层积与前述机能性透明膜不同的机能性膜形成层积体的步骤等3个步骤之中的某一步骤实施后至少施行1次加热处理。首先，形成相位位移膜(S101)，对此在260℃~320℃的温度范围内施以4小时以上的加热处理(S102)，接着施以闪光照射处理(S103)。于这些处理后的相位位移膜之上形成遮光膜(S104)，得到光罩基板(S105)。

主权项

一种光罩基板，系对曝光光线为透明的基板上被形成至少包含1种机能性透明膜的层积体之光罩基板，其特征为：前述层积体，在前述机能性透明膜的成膜步骤、于前述机械性透明膜之成膜后1次的照射时间在1秒以下的闪光照射处理至少施行1次的步骤、及层积与前述机能性透明膜不同的机能性膜而形成前述层积体的步骤，之任一步骤后，在260℃~320℃的温度范围内实施4小时以上的加热处理至少被施行1次。