发明名称 |
Verfahren zur Abscheidung einer Siliziumoxidschicht |
摘要 |
|
申请公布号 |
DE59602585(D1) |
申请公布日期 |
1999.09.09 |
申请号 |
DE19965002585 |
申请日期 |
1996.05.03 |
申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
GABRIC, ZVONIMIR;SPINDLER, OSWALD |
分类号 |
C23C16/40;C23C16/44;(IPC1-7):C23C16/40 |
主分类号 |
C23C16/40 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|