发明名称 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 조명 광학계는, 피조명면의 조명 범위를 규정하는 조리개; 상기 조리개의 개구의 화상을 상기 피조명면에 결상하는 촬상광학계; 상기 피조명면의 목표 조명 범위의 크기 B를 사용하는 값(B÷β)에 추가된 오프셋량 δ를 취득하는 취득부 ; 및 식 A=B÷β+δ를 만족하도록 상기 취득된 오프셋량 δ에 의거하여 상기 개구의 크기 A 를 조정하는 조정부를 구비하고, 상기 β 는 상기 촬상광학계의 결상배율이고, 상기 취득된 오프셋량 δ은 상기 피조명면의 상기 목표 조명 범위의 상기 크기 B 에 따라 다르다.
申请公布号 KR101633317(B1) 申请公布日期 2016.06.24
申请号 KR20130036122 申请日期 2013.04.03
申请人 캐논 가부시끼가이샤 发明人 사이토 노부유키
分类号 G02B27/16;G02B27/40;G03F7/20;G03F7/207 主分类号 G02B27/16
代理机构 代理人
主权项
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