| 摘要 |
본 발명의 과제는 기판의 회전수를 높게 하고 또한 처리컵 내의 배기를 저배기량으로 행해도 배기류의 역류를 억제하여, 기판으로의 미스트의 재부착을 저감시킬 수 있는 액처리 장치 및 액처리 방법을 제공하는 것이다. 하강 기류가 형성되어 있는 처리컵(33)에서 회전하고 있는 웨이퍼(W)에 대해 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 장치에 있어서, 처리컵(33)의 스핀 척(31)에 보유 지지된 웨이퍼(W)의 외주 근방에 간극을 통해 당해 웨이퍼(W)를 둘러싸도록 환 형상으로 설치되고, 그 내주면의 종단면 형상이 외측으로 팽창되는 것처럼 만곡되어 하방으로 신장되는 상측 가이드부(70)와, 상기 웨이퍼(W)의 주연부 하방으로부터 외측 하방으로 경사진 경사벽(41) 및 이 경사벽(41)에 연속하여, 하방으로 수직으로 신장되는 수직벽(42)으로 구성된 하측 가이드부(45)를 구비한다. |
