| 摘要 |
<p>La présente invention concerne des procédés de traitement humide pour composants électroniques, utilisant des liquides de traitement à teneurs (c'est-à-dire des quantités) en gaz contrôlées. La présente invention concerne des procédés de traitement humide dans lesquels deux liquides de traitement au moins utilisés lors d'un processus de traitement humide présentent différentes teneurs en gaz. Il est possible d'utiliser éventuellement de l'énergie sonique dans une ou plusieurs étapes de traitement humide d'un processus de traitement humide pour obtenir de meilleurs résultats. Les procédés de la présente invention permettent d'obtenir, par exemple, un nettoyage amélioré ou une contamination par particules réduite lors d'un processus de traitement humide.</p> |
