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发明名称 APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR WAFERS
摘要 <p>The present invention relates to an apparatus and method for cleaning post-etch semiconductor wafers (230) using ultra-pure dry steam.</p>
申请公布号 WO1999043447(A1) 申请公布日期 1999.09.02
申请号 US1999003931 申请日期 1999.02.23
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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