METHOD FOR FORMING AN WIRING LAYER OF A SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号KR19960080082-传众专利搜索

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发明名称	METHOD FOR FORMING AN WIRING LAYER OF A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR100219513(B1)	申请公布日期	1999.09.01
申请号	KR19960080082	申请日期	1996.12.31
申请人	SAMSUNG ELECTRONICS CO, LTD.	发明人	LEE, JOO-WON;LEE, SANG-IN
分类号	H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28	主分类号	H01L21/28
代理机构		代理人
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