| 发明名称 |
Method of manufacturing semiconductor device and methods of processing, analyzing and manufacturing its substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0690484(B1) |
申请公布日期 |
1999.08.25 |
| 申请号 |
EP19950110253 |
申请日期 |
1995.06.30 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA |
发明人 |
KAGEYAMA, MOKUJI;MIYASHITA, MORIYA |
| 分类号 |
H01L21/316;H01L21/26;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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