| 摘要 |
본 발명의 화상 미분 유닛은 검사될 물체에 대한 기준 화상 및 검사 화상을 미분한다. 화상 분할 유닛은 화상을 소정의 분할수로 분할한다. 픽셀 정확도 위치 정렬 유닛은 픽셀 크기 정확도인 픽셀 정확도로 위치 정렬을 수행함으로써 기준 화상 및 검사 화상을 오버레이한다. 함수 피팅 유닛은 에지를 검출하고, 이 에지와 직교하는 방향의 절대 픽셀값의 명암 프로파일의 분포를 얻고, 이 명암 프로파일에 소정의 단일 피크 함수를 피팅한다. 서브 픽셀 정확도 위치 변위 산출 유닛은 대응하는 에지 위치의 차이를 서브픽셀 정확도 위치 변위로서 산출한다. 조정 미분 화상 형성 유닛은 상기 에지와 직교하는 방향의 픽셀값의 명암 프로파일이 대응하는 2개의 에지에 대한 단일 피크형 함수 형태를 따르도록 픽셀값을 재기록함으로써 조정 미분 화상을 형성한다. 화상 비교 유닛은 서브 픽셀 정확도의 위치 변위를 기초로, 검사된 화상의 조정 분할 미분 화상을 기준 화상의 조정 분할 미분 화상과 비교함으로써 검사될 물체의 결함을 검출한다. |
