| 主权项 |
1.一种含一基质之电子组件,在该基质之一表面上提供了一含被动元件之薄膜结构,具有一形成于一电阻材料层中之电阻,并具有一电容,该电容具有:形成于设在该表面上之一电极层中之下电极,由设在该下电极上之一绝缘材料层形成之介电层,及形成于设在该介电层上之一电极层中之上电极,其中在电容诸电极中有一电极系形成于一构成双层之电极层中,该双层之一第一部份层由电阻材料层形成,其中该电阻材料层亦形成有电阻,而在该第一部份层上所设之导电材料层则形成另外的第二部份层。2.如申请专利范围第1项之电子组件,其中电容之另一电极乃形成于一构成单一导电材料层之电极层中。3.如申请专利范围第2项之电子组件,其中在形成电容诸电极之电极层中,亦形成有导体轨道,诸轨道连接组件内之各被动元件。4.如申请专利范围第1.2.或3项之电子组件,其中构成单一导电材料层之电极层乃设于基质表面上,而构成双层之电极层则设于绝缘材料层上,其中该绝缘材料层形成电容介电层。5.如申请专利范围第4项之电子组件,其中一线圈亦形成于构成双层之电极层中,其一线圈端连接至一导体轨道,该导体轨道形成于设在该表面上之电极层中。6.如申请专利范围第1项之电子组件,其中一修改表面系形成于电阻区域之电阻层中,藉此,可经由该修改表面之去除而改变电阻値。7.如申请专利范围第1项之电子组件,其中一修改表面系形成于电容区域之双层中,藉此,可经由该修改表面之去除而改变电容之电容値。8.如申请专利范围第5项之电子组件,其中一修改表面系形成于线圈区域之双层中,藉此,经由该修改表面之去除,可改变线圈之自感値。9.如申请专利范围第8项之电子组件,其中导电材料层系于电容及线圈之修改表面区域处自电阻材料层去除。图式简单说明:第一图至第五图以截面图之方式展示了根据本发明电子组件之一些制造步骤,第六图至第十图以截面图之方式展示了根据本发明-电子组件一较佳实施例之一些制造步骤,及第十一图以截面图之方式展示了根据本发明-电子组件之再一较佳实施例。 |
