发明名称 光阻涂布装置及其方法
摘要 本案提供一光阻涂布装置及其方法,其中光阻是用扫描的方式喷涂来进行晶圆之光阻涂布,且晶圆的旋转速度相对于光阻喷涂于晶圆上之位置而有所不同,从而将用来涂布的光阻量减至最少。此晶圆的光阻涂布方法系以一方式实施而使得当一喷嘴从该晶圆的边缘侧扫描至中心时喷涂光阻,在该扫描期间该晶圆的旋转速度会增加。
申请公布号 TW367540 申请公布日期 1999.08.21
申请号 TW087104189 申请日期 1998.03.20
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 尹炳珠;金文佑
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼号七楼;恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种光阻涂布装置,用来以经由喷嘴喷涂之光阻涂布在旋转夹盘上旋转之晶圆,该装置包含有:一喷嘴驱动装置,移动该喷嘴从该晶圆之边缘侧至其中心以进行扫描涂布;一马达,用以相对于该喷嘴的位置提供不同的旋转力在该旋转夹盘上;一控制装置,用以藉由确认由该喷嘴驱动工具从该晶圆边缘侧移动至中心的该喷嘴的位置渐渐地增加该马达的旋转速度。2.如申请专利范围第1项之光阻涂布装置,其中该控制装置被建构成使得该马达的旋转速度是在该喷嘴从该晶圆的边缘侧扫描至其中心时非线性地渐渐增加。3.如申请专利范围第1项之光阻涂布装置,其中该控制装置被建构成使得该马达的旋转速度是在该喷嘴从该晶圆的边缘侧扫描至其中心时线性地渐渐增加。4.一种晶圆的光阻涂布方法,其中系在一喷嘴从该晶圆的边缘侧扫描至其中心时喷涂光阻,在该扫描动作期间该晶圆的旋转速度会增加。图式简单说明:第一图为显示传统光阻涂布装置之示意图;第二图为显示根据本发明之光阻涂布装置之一实施例之示意图;第三图显示出旋转速度在光阻喷涂期间相对于区间而不同之晶圆的涂布表面。第四图为显示根据本发明之一实施例之方块图。
地址 韩国