| 主权项 |
1.一种用以由定向在不一致表面之基层表面上移 去污物之 方法,包含:引导气流在多数不一致基层处理平面 上,该 气体对基层处理表面无活性并传导以使气流穿越 相关之不 一致处理平面;当气体被引导于该等不一致基层处 理平面 之上时,开始照射该等不一致基层处理平面,该照 射步骤 包括引导照射至多数不一致处理表面,此种照射具 有之能 量密度和时间足以由基底处理表面释出表面污物, 而不足 以改变基层处理表面之分子结晶构造,该引导气流 和照射 至不一致基层处理表面乃受到执行以使照射能量 及气流被 施加,藉此实质相等的能量被施加于受处理之每个 该等一 不致的表面上而气流在此同时被施用穿过每一被 处理的不 一致表面使得被导引的照射能量与气流的流动方 向交叉穿 越相关之不一致处理平面之一,并使得气流移去因 受到照 射能量而由多数不一致处理表面所释放或松弛之 污物。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中照 射包括以具 有入口端和出口端之照射导管之照射,且该照射亦 包括将 该照射导管之出口端插入一延伸包装和径向的引 导照射向 外离开照射导管之中央轴而至由延伸包封所界定 之不一致 基层处理表面。3.如申请专利范围第2项所述之方 法,其中该延伸包封为 一圆柱体,且引导一气流包括引导气流离开具有一 开口接 近照射导管之出口之气体导管,且该气体导管开口 相关于 照射导管出口设置,藉此,该气流由照射导管向外 引导之 照射之接触位置接触不一致处理表面上游,因此, 气流再 引导在沿着延伸包封之延伸流动方向,该流动方向 交错由 照射导管向外引导之照射。4.如申请专利范围第1 项所述之方法,其中照射不一致表 面包括经由一照射导管直接照射,并调整该照射导 管之出 口端,以循序的处理该不一致处理表面。5.如申请 专利范围第4项所述之方法,其中该照射导管包 括一入口端和该出口端,以及一中介部份,该中介 部份可 调整以供出口端之操控而直接引导照射至该不一 致表面。6.如申请专利范围第4项所述之方法,其中 引导气流包括 引导气体经由至少一气体通道至一气体出口,和调 整气体 出口之位置以引导气体在正在照射之面积上。7. 如申请专利范围第6项所述之方法,其中该气体通 道和 该照射导管一起延伸至共同出口位置,藉此,该照 射导管 之出口端之调整导致该气体通道之出口端之同时 调整。8.如申请专利范围第6项所述之方法,其中该 照射导管是 可弯曲的,且引导气流和照射不一致处理表面包括 弯曲该 可弯曲导管成为不同形状,以配合受处理之基层之 形状变 化。9.如申请专利范围第1项所述之方法,其中穿过 该不一致 表面之气流大致上是相同的。10.如申请专利范围 第1项所述之方法,其中被处理之不一 致表面是一被处理的管子的内部所呈现者。11.如 申请专利范围第1项所述之方法,其中引导气流包 括 由位置可调整之主气流导管和由可提供通过基层 之连续非 调整稳定气流之次气流源施加气体,而该主气流导 管引导 一主气流相对于该基层。图式简单说明:第一图是 依照本 发明的污物移除方法及装置的说明图。第二图是 显示如何 将雷射运用于本发明一个实施例来从相当平坦的 受处理表 面除去污物之说明图。第三图是显示如何将雷射 运用于本 发明另一实施例来从相当平坦的受处理表面除去 污物之说 明图。第四图是显示依据本发明利用遮罩连同照 射并施加 气体来从相当平坦的受处理表面除去污物的说明 图。第五 图是依照本发明用来将污物从不规则形之受处理 表面除去 的污物移除装置的说明图。第六图至第十一图是 依照本发 明之原理的用来输送气体和照射不规则受处理表 面之用的 装置的图解末端图。第十二图和第十三图是显示 第五图的 本发明如何可运用来从一长形密闭状通道内部除 去污物之 图解侧视图。第十四图是依照本发明之原理的用 来输送气 体和照射不规则形受处理表面之用的装置之图解 末端图。 第十五图是说明第十四图之装置的部分平面图。 第十六图 是依照本发明之原理的用来输送气体和照射不规 则形受处 理表面之用的装置的另一组态的部分平面图。第 十七图和 第十七图a是具有一弹性、多孔的中央支撑结构之 第五图 本发明之应用的图解侧视图。第十八图是具有光 学扩散器 之本发明的应用的图解侧视图。第十九图和第二 十图显示 第五图的本发明如何可用来从制程室内部除去污 物的图解 侧视图。第二十一图和第二十二图显示第五图的 本发明如 何可用来从不规则形状的物体之外部除去污物的 图解侧视 图。第二十三图和第二十四图显示照射是如何运 用于本发 明另一实施例来从输送管内部除去杂污物之图解 侧视图。 第二十五图和第二十六图分别是显示照射如何运 用于本发 明另一实施例未从不规则形状之物体的外部除去 污物的图 解末端和侧视图。 |
