| 发明名称 |
PHOTORESIST REMOVING APPARATUS OF WAFER EDGE FOR SEMICONDUCTOR PROCESS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100215886(B1) |
申请公布日期 |
1999.08.16 |
| 申请号 |
KR19960020986 |
申请日期 |
1996.06.12 |
| 申请人 |
HYUNDAI MICRO ELECTRONICS CO.,LTD. |
发明人 |
KIM, WON-CHAN |
| 分类号 |
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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