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Beschrieben wird ein Verfahren zur Aktivierung von Schichtsilicaten mit einer Ionenumtauschfähigkeit (IUF) von mindestens 25 mVal/g durch Behandlung derselben mit einer Säure, das dadurch gekennzeichnet ist, dass man das Schichtsilicat mit etwa 1 bis 10 Gew.-% einer Säure (bezogen auf Schichtsilicat atro) bei einer Temperatur von nicht mehr als 80 DEG C aktiviert und das aktivierte Schichtsilicat bei Temperaturen von etwa 200 bis 400 DEG C calciniert und gegebenenfalls zerkleinert.
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