| 主权项 |
1.一种染料混合物,其包含至少一种具下式之阴离 子酸染 料与至少一种具下式之阴离子酸染料其中R1,R2,R3,R 4 ,R5及R6分别为氢或C1-C4烷基,B1及B2分为具下列式之 桥部份-NR9-E2-NR10-其中R9,R10及R11分别为氢或C1-C8 烷基未取代或经羟基或C1-C4烷氧基取代,R12及R12′ 分 别为氢,C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,C2-C4烷醯基氨基, 卤素,硫代基或羧基,及E2及E3分别为C2-C8烷撑未取 代 或经羟基或C1-C4烷氧基取代,及未被插入或被一或 多个- O-基插入,或C5-C7环烷撑,C5-C7环烷撑-C1-C8烷撑或C1 -C8烷撑-C5-C7环烷撑未取代或于环烷基环经C1-C4烷 基取 代,A1,A2,A3,A4,A5及A6分别为具下列之基其中R13 ,R14,R15及R16分别为氢,硫代基,羧基,氨基甲醯基 ,卤素,氰基或基,C1-C4烷基或C1-C4烷氧基未取代或 经羟基取代,或C2-C4烷醯基氨基未取代或于烷基部 份经 羟基或C1-C4烷氧基取代;其中R17,R18及R19具上述R13 ,R14,R15及R16之定义;其中R20,R21,R22,R23及R24 具上述R13,R14,R15及R16之定义;其中R25及R26具上述 R13,R14,R15及R16之定义;其中R27为氢,C2-C6烷醯基 未取代或经羟基或C1-C4烷氧基取代,或苯基或苯甲 醯基 未取代或于苯基环经C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,C2-C4烷 醯基氨基,硫代基,羧基,卤素,氰基或基取代,及 R28及R29具上述R13,R14,R15及R16之定义;其中R30及 R31具上述R13,R14,R15及R16之定义;其中R32及R33具 上述R13,R14,R15及R16之定义;其中R34,R35,R36及 R37具上述R13,R14,R15及R16之定义;或其中R38,R39 ,R40,R41,R42及R43具上述R13,R14,R15及R16之定义 ,n为数目0或1,及Y1及Y1分别为具下列式之基其中R7, R8及R8′分别为氢或C1-C8烷基未取代或经羟基,C1-C4 烷 氧基,卤素,氨基或硫酸根基取代,及E1为C2-C8烷撑未 取代或经羟基,C1-C4烷氧基,卤素,氨基或硫酸根基 取 代,及未被插入或被一或多个-O-基插入,或C5-C7环烷 撑 ,C5-C7环烷撑-C1-C8烷撑或C1-C8烷撑-C5-C7环烷撑未取 代或于烷撑基经羟基或C1-C4烷氧基取代及于环烷 基环经 C1-C4烷基取代。2.根据申请专利范围第1项之染料 混合物,其中R1,R2, R3,R4,R5及R6为氢。3.根据申请专利范围第1或第2项 之染料混合物,其中n为 数目0。4.根据申请专利范围第1或第2项之染料混 合物,其中R7, R8及R8′分别为氢或C1-C8烷基未取代或经羟基或C1-C 4烷 氧基取代,及E1为C2-C8烷撑未取代或经羟基或C1-C4烷 氧 基取代,及未被插入或被一或多个-O-基插入,或C5-C7 环 烷撑,C5-C7环烷撑-C1-C8烷撑或C1-C8烷撑-C5-C7环烷撑 未取代或于环烷基环经C1-C4烷基取代。5.根据申请 专利范围第1项之染料混合物,其中A1,A2, A3,A4,A5及A6分别为式(6),(7),(8),(9),(10),( 11),(12)或(14)之基。6.根据申请专利范围第1或第2项 之染料混合物,其包含具 下式之阴离子酸染料与具下式之阴离子酸染料其 中X1为具 下式之基其中R7及R8为氢或C1-C8烷基未取代或经羟 基或 C1-C4烷氧基取代,及E1为C2-C8烷撑未取代或经羟基或 C1 -C4烷氧基取代,及未被插入或被一或多个-O-基插入 ,或 C5-C7环烷撑,C5-C7环烷撑-C1-C8烷撑或C1-C8烷撑-C5- C7环烷撑未取代或于环烷基环经C1-C4烷基取代。7. 根据申请专利范围第6项之染料混合物,其中R7及R8 为 氢或C1-C4烷基未取代或经羟基或C1-C4烷氧基取代,E1 为 C2-C8烷撑未取代或经羟基或C1-C4烷氧基取代,及A1及 A2 具相同意义。8.一种制备根据申请专利范围第6项 染料混合物之方法, 其包括具下式之化合物与具下式之化合物反应H-X1 -H (17)其中Z为卤素,R1,R2分别 为氢或C1-C4烷基,A1,A2分别为单偶氮或双偶氮染料 之 基或金属复合偶氮染料之基,及X1为根据申请专利 范围第 6项之定义,及式(16)及(17)化合物所使用之莫耳比例 大 于1:1且小于2:1。9.一种具下式之阴离子酸染料其 中R1及R2分别为氢或C1- C4烷基,B1为具下列式之桥部份-NR9-E2-ER10- (5a),其中R9,R10及R11分别为氢或 C1-C8烷基未取代或经羟基或C1-C4烷氧基取代,R12及R 12 ′分别为氢,C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,C2-C4烷醯基氨 基,卤素,硫代基或羧基,及E2及E3分别为C2-C8烷撑未 取代或经羟基或C1-C4烷氧基取代,及未被插入或被 一或 多个-O-基插入,或C5-C7环烷撑,C5-C7环烷撑-C1-C8烷 撑或C1-C8烷撑-C5-C7环烷撑未取代或于环烷基环经C1 -C4 烷基取代,A1及A2分别为具下式之基其中R13,R14,R15 及R16分别为氢,硫代基,羧基,氨基甲醯基,卤素,氰 基或基,C1-C4烷基或C1-C4烷氧基未取代或经羟基 取代 ,或C2-C4烷醯基氨基未取代或于烷基部份经羟基或C 1-C4 烷氧基取代;其中R17,R18及R19具上述R13,R14,R15及 R16之定义;其中R20,R21,R22,R23及R24具上述R13, R14,R15及R16之定义;其中R25及R26具上述R13,R14, R15及R16之定义;其中R27为氢,C2-C6烷醯基未取代或经 羟基或C1-C4烷氧基取代,或苯基或苯甲醯基未取代 或于 苯基环经C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,C2-C4烷醯基氨基, 硫代基,羧基,卤素,氰基或基取代,及R28及R29具上 述R13,R14,R15及R16之定义;其中R30及R31具上述R13 ,R14,R15及R16之定义;或其中R34,R35,R36及R37具 上述R13,R14,R15及R16之定义;n为数目0或1,及Y1及 Y1分别为具下列式之基其中R7,R8及R8′分别为氢或C 1- C8烷基未取代或经羟基,C1-C4烷氧基,卤素,氨基或硫 酸根基取代,及E1为C2-C8烷撑未取代或经羟基,C1-C4 烷 氧基,卤素,氨基或硫酸根基取代,及未被插入或被 一或 多个-O-基插入,或C5-C7环烷撑,C5-C7环烷撑-C1-C8烷 撑或C1-C8烷撑-C5-C7环烷撑未取代或于烷撑基经羟 基或 C1-C4烷氧基取代及于环烷基环经C1-C4烷基取代。10. 根据申请专利范围第9项之阴离子酸染料,其中R1及 R2 为氢。11.根据申请专利范围第9或第10项之阴离子 酸染料,其中 n为数目0。12.根据申请专利范围第9或第10项之阴 离子酸染料,其中 R7,R8及R8′分别为氢或C1-C8烷基未取代或经羟基或C 1- C4烷氧基取代,及E1为C2-C8烷撑未取代或经羟基或C1- C4 烷氧基取代,及未被插入或被一或多个-O-基插入, 或C5- C7环烷撑,C5-C7环烷撑-C1-C8烷撑或C1-C8烷撑-C5-C7环 烷撑未取代或于环烷基环经C1-C4烷基取代。13.根 据申请专利范围第9项之阴离子酸染料,其中n为数 目0,R7,R8及R8′为氢或C1-C4烷基未取代或经羟基或C1 -C4烷氧基取代,E1为C2-C8烷撑未取代或经羟基或C1-C4 烷氧基取代,及A1及A2分别为式(6),(7),(8),(9),( 10),(11),(12)或(14)之基,及A1及A2具相同意义。14.一种 制备根据申请专利范围第9项其中n为数目0之式(1 )阴离子酸染料之方法,其包括反应具下式之化合 物与具 下式之化合物A1-NHR1 (19a)具下式之 化合物A2-NHR2 ( 19b)及具下式之化合物Y1-H (20a)其中A1,A2,R1 ,R2及Y1分别为根据申请专利范围第9项之定义,及Z 为卤 素。15.一种制备根据申请专利范围第9项其中n为 数目1之式(1 )阴离子酸染料之方法,其包括a)具下式之化合物分 别与 具下式之化合物相互反应A1-NHR1 (19a)以得到具下式之化合物且进 一步之式(18)化合物与具下式之化合物反应A2-NHR2 (19b)以得到具 下式之化合物b)具下式之化合物H-B1-H (22a)连续地以任何 顺序与得自a)之式(21a)及(21b)化合物反应,及c)得自b ) 之下式化合物与至少一种具下式之化合物反应Y1-H ( 20a),及Y2-H ( 20b)其中A1,A2,R1,R2,Y1,Y2及B1分别为根据申请专 利范围第9项之定义,及Z为卤素。16.一种具下式之 阴离子酸染料其中R3,R4,R5及R6分别 为氢或C1-C4烷基,B2为具下列式之桥部份-NR9-E2-NR10- (5a),其中R9,R10及R11分 别为氢或C1-C8烷基未取代或经羟基或C1-C4烷氧基取 代, R12及R12′分别为氢,C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,C2-C4 烷醯基氨基,卤素,硫代基或羧基,及E2及E3分别为C2- C8烷撑未取代或经羟基或C1-C4烷氧基取代,及未被 插入 或被一或多个-O-基插入,或C5-C7环烷撑,C5-C7环烷撑- C1-C8烷撑或C1-C8烷撑-C5-C7环烷撑未取代或于环烷基 环 经C1-C4烷基取代,A3,A4,A5及A6分别为具下式之基其 中R13,R14,R15及R16分别为氢,硫代基,羧基,氨基甲 醯基,卤素,氰基或基,C1-C4烷基或C1-C4烷氧基未取 代或经羟基取代,或C2-C4烷醯基氨基未取代或于烷 基部 份经羟基或C1-C4烷氧基取代;其中R17,R18及R19具上述 R13,R14,R15及R16之定义;其中R20,R21,R22,R23及 R24具上述R13,R14,R15及R16之定义;其中R25及R26具 上述R13,R14,R15及R16之定义;其中R27为氢,C2-C6烷 醯基未取代或经羟基或C1-C4烷氧基取代,或苯基或 苯甲 醯基未取代或于苯基环经C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,C2- C4烷醯基氨基,硫代基,羧基,卤素,氰基或基取代, 及R28及R29具上述R13,R14,R15及R16之定义;其中R30 及R31具上述R13,R14,R15及R16之定义;其中R32及R33 具上述R13,R14,R15及R16之定义;其中R34,R35,R36 及R37具上述R13,R14,R15及R16之定义;或其中R38, R39,R40,R41,R42及R43具上述R13,R14,R15及R16之 定义。17.根据申请专利范围第16项之阴离子酸染 料,其中R3, R4,R5及R6为氢。18.根据申请专利范围第16项之阴离 子酸染料,其中A3, A4,A5及A6分别为式(6),(7),(8),(9),(10),(11), (12)或(14)之基。19.根据申请专利范围第16项之阴离 子酸染料,其中A3, A4,A5及A6分别为式(6),(7),(8),(9),(10),(11), (12)或(14)之基,及B2为具下列式之桥部份-NR9-E2-NR10 - (5a),其中R9,R10及R11 分别为氢或C1-C8烷基未取代或经羟基或C1-C4烷氧基 取代 ,及E2及E3分别为C2-C8烷撑未取代或经羟基或C1-C4烷 氧 基取代,及未被插入或被一或多个-O-基插入,或C5-C7 环 烷撑,C5-C7环烷撑-C1-C8烷撑或C1-C8烷撑-C5-C7环烷撑 未取代或于环烷基环经C1-C4烷基取代。20.根据申 请专利范围第19项之阴离子酸染料,其中R9, R10及R11为氢或C1-C4烷基未取代或经羟基或C1-C4烷氧 基 取代,E2及E3为C2-C8烷撑未取代或经羟基或C1-C4烷氧 基 取代,及A3,A4,A5及A6具相同之意义。21.一种制备根 据申请专利范围第16项式(2)阴离子酸染料 之方法,其包括a)具下式之化合物与具下式之化合 物A3- NHR3 (19c )及具下式之化合物反应A4-NHR4 (19d)以得到具下式之化合物b)具 下式之化合物与具下式之化合物A5-NHR5 (19e)及具下式之化合物反 应A6-NHR6 (19f)以得到具下式之化合物及c)具下式之化合物H-B 2- H ( 22b)与得自a)及b)之式(24a)及(24b)化合物反应,其中A3 ,A4,A5,A6,R3,R4,R5,R6及B2分别为式(2)之定义 ,及Z为卤素。22.根据申请专利范围第9或16项之阴 离子酸染料,其用于 染色与印刷含氮或纤维素纤维材料。23.根据申请 专利范围第9或16项之阴离子酸染料,其用于 存有使用于聚酯纤维之分散染料时染色聚酯纤维 之条件下 染色合成纤维及纤维素纤维材料之纤维混合物。 |
