| 发明名称 |
HIGH-SPEED DRY ETCHING OF INDIUM OXIDE FILM AND TIN OXIDE FILM USING RADICAL OF HYDROGEN WITH HALOGEN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11219941(A) |
申请公布日期 |
1999.08.10 |
| 申请号 |
JP19980296902 |
申请日期 |
1998.10.19 |
| 申请人 |
APPLIED KOMATSU TECHNOL INC |
发明人 |
SU YUH-JIA;WONG YUEN-KUI;LAW KAM S;GOTO HARUHIRO |
| 分类号 |
C01G15/00;C01G19/02;C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213;H01L21/461;H01L31/18;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
C01G15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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