| 发明名称 |
SPUTTERING METHOD USING IONIZED THIN-FILM FORMING SUBSTANCE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11214332(A) |
申请公布日期 |
1999.08.06 |
| 申请号 |
JP19980237692 |
申请日期 |
1998.08.24 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD |
发明人 |
RYU HONEI;BOKU EIKO;RI GENTOKU |
| 分类号 |
C23C14/34;H01L21/203;H01L21/28;H01L21/285;(IPC1-7):H01L21/285 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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