发明名称 SUBSTRATE, ITS MANUFACTURE, AND PATTERN FORMATION METHOD
摘要
申请公布号 JPH11207959(A) 申请公布日期 1999.08.03
申请号 JP19980016237 申请日期 1998.01.28
申请人 SEIKO EPSON CORP 发明人 KANBE SADAO;SEKI SHUNICHI;FUKUSHIMA HITOSHI;KIGUCHI HIROSHI
分类号 B41J2/045;B41J2/055;H01L21/02;H01L21/30;H05K3/06;H05K3/10;(IPC1-7):B41J2/045 主分类号 B41J2/045
代理机构 代理人
主权项
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