| 发明名称 |
PLASMA FORMING APPARATUS AND ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THIS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100213202(B1) |
申请公布日期 |
1999.08.02 |
| 申请号 |
KR19960017476 |
申请日期 |
1996.05.22 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO, LTD. |
发明人 |
JI, KYONG-KOO |
| 分类号 |
H01L21/302;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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