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发明名称 PROCEDIMENTO PER LA FORMAZIONE DI STRATI ISOLANTI DI SPESSORE PREDETERMINATO IN WAFER DI SEMICONDUTTORI PER LA PRODUZIONE DI CIRCUITI INTEGR
摘要
申请公布号 ITRM990498(D0) 申请公布日期 1999.08.02
申请号 IT1999RM00498 申请日期 1999.08.02
申请人 SHINE SPA 发明人 BALUCANI MARCO;BONDARENKO VITALY;FERRARI ALDO;LAMEDICA GIULIO;YAKOVTSEVA VALENTINA;PANFILENKO ANATOLY KUZMICH
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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