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发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING A PATTERN USING THEREOF
摘要
申请公布号 KR100214234(B1) 申请公布日期 1999.08.02
申请号 KR19920017336 申请日期 1992.09.23
申请人 MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION 发明人 NISHI, MINEO;NAKANO, KOJI;TAKADA, YOSHIHIRO
分类号 G03F7/023;(IPC1-7):G03F7/22 主分类号 G03F7/023
代理机构 代理人
主权项
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