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发明名称 RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION COMPRISING NAPHTHQUINONE-DI-AZIDE-SULFONIC ACID ESTERS AND RECORDING MATERIAL PRODUCED THEREWITH
摘要
申请公布号 KR100213589(B1) 申请公布日期 1999.08.02
申请号 KR19920005734 申请日期 1992.04.07
申请人 HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 SCHELER, SIEGFRIED;ZAHN, WOLFGANG;SCHMITT, AXEL;BUHR, GERHARD
分类号 G03F7/00;G03F7/022;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/22 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人
主权项
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