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<p>Ein Flächenmuster (1) ist aus mosaikartig angeordneten Elementen (2 bis 5) zusammengesetzt, von denen wenigstens ein Muster aus einem Hintergrundelement (4) und einem Bildelement (2) mit mikroskopisch feinen, sichtbares Licht beugenden Reliefstrukturen gebildet ist. Die Flächenelemente (3) und die Teilelemente (5) enthalten entweder die mikroskopisch feinen, sichtbares Licht beugenden Reliefstrukturen oder bestehen aus spiegelnden oder streuenden Flächen. Im Bildelement (2) ist ein erstes Beugungsgitter B1 und im Hintergrundelement (4) ein zweites Beugungsgitter B2 angeordnet, wobei das erste Beugungsgitter B1 und das zweite Beugungsgitter B2 eine Überlagerung von wenigstens zwei verschiedenen, mikroskopisch feinen, sichtbares Licht beugenden Reliefstrukturen F1 und F2 sind. Das erste Beugungsgitter B1 und das zweite Beugungsgitter B2 unterscheiden sich nur durch eine relative Phasenverschiebung Δζ zwischen der Reliefstruktur F1 und der Reliefstruktur F2. Bei der Beleuchtung mit polychromatischem Licht weist das Muster eine einzige Farbe auf, das in Zonen mit verschiedenen Werten der Phasenverschiebung Δζ Helligkeitsunterschiede aufweist.</p> |
