| 发明名称 |
HIGH TEMPERATURE REFLOW SPUTTERING METHOD AND REFLOW SPUTTERING DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11200034(A) |
申请公布日期 |
1999.07.27 |
| 申请号 |
JP19980020263 |
申请日期 |
1998.01.16 |
| 申请人 |
ANELVA CORP |
发明人 |
KOBAYASHI MASAHIKO;TAKAHASHI NOBUYUKI |
| 分类号 |
C23C14/34;H01L21/203;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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