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发明名称
巨磁阻材料P-N结结构
摘要
本发明涉及巨磁阻材料P-N结结构。在单晶基底上制备一层N型或P型巨磁阻薄膜,然后再在上述薄膜上制备一层P型或N型巨磁阻材料薄膜,这样就制备成一个巨磁阻材料P-N结。包括在已经制备好的P-N结材料薄膜上制备另一层不同类型的巨磁阻材料薄膜就获得了P-N-P或N-P-N型巨磁阻材料三极管结构。交替制备P型与N型巨磁阻材料薄膜就获得了多层P-N结结构,P-N结或三极管结构或P-N结多层结构都对磁场相当敏感,其特性曲线是磁场的函数。
申请公布号
CN1223475A
申请公布日期
1999.07.21
申请号
CN98101982.X
申请日期
1998.05.26
申请人
中国科学院物理研究所
发明人
戴守愚;周岳亮;吕惠宾;陈正豪;杨国桢
分类号
H01L43/00;H01L29/82
主分类号
H01L43/00
代理机构
代理人
主权项
1.一种巨磁阻材料P-N结结构,其特征在于:包括在基片上淀积一层P型或N型巨磁阻材料,再在上述P型或N型巨磁阻材料上淀积一层N型或P型体巨磁阻材料。由P型和N型巨磁阻材料交替淀积组成。其中巨磁阻材料P-N结结构的电流-电压关系为半导体Ⅰ-Ⅴ曲线,电阻为磁场强度的函数。
地址
100080北京市603信箱谷冬梅转
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