| 发明名称 |
Plasma processing apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG66424(A1) |
申请公布日期 |
1999.07.20 |
| 申请号 |
SG19980000064 |
申请日期 |
1998.01.07 |
| 申请人 |
PLASMA SYSTEM CORP |
发明人 |
SOEJIMA YUKIO;KATSURA TOSHIMI;MIYAZAWA HIDEAKI |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/44;H01L21/00;H01L21/302;H01L21/677;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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