| 发明名称 |
A PASS PUBLICATION SYSTEM AND METHOD FOR SEMICONDUCTOR FABRICATION EQUIPMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100208706(B1) |
申请公布日期 |
1999.07.15 |
| 申请号 |
KR19960033600 |
申请日期 |
1996.08.13 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO, LTD. |
发明人 |
PARK, KYUNG-DEUK |
| 分类号 |
H01L21/00;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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