| 发明名称 |
FABRICATING METHOD OF S.O.I. SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100209365(B1) |
申请公布日期 |
1999.07.15 |
| 申请号 |
KR19950039164 |
申请日期 |
1995.11.01 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD |
发明人 |
NAM, CHUL-WOO |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/76;H01L21/762;H01L27/12;(IPC1-7):H01L27/12 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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