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发明名称 Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern
摘要
申请公布号 DE59209708(D1) 申请公布日期 1999.07.15
申请号 DE19925009708 申请日期 1992.10.24
申请人 BASF AG, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE 发明人 BINDER, HORST, W-6840 LAMPERTHEIM, DE;SCHWALM, REINHOLD, DR., W-6707 WACHENHEIM, DE;FUNHOFF, DIRK, DR., W-6900 HEIDELBERG, DE
分类号 G03F7/004;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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