发明名称 | 温度均匀的烹调面 | ||
摘要 | 提供一种烹调系统,其中烤盘型加热面的温度在其整个表面上基本是均匀的,从而既使食品外表面的过度烹调减至最小,也减少了食品烹调不足的问题。该烹调系统包括一封闭的烹调介质室,它具有一基本成平面的顶烹调面、一底烹调面及侧壁,以用于容纳加热介质如水。在烹调室本身或其相邻室内设置有用来加热烹调介质室内的水的机构,同时设置有控制装置来控制顶烹调面的温度,其中顶烹调面的温度在顶烹调面的整个暴露表面上都是均匀的。 | ||
申请公布号 | CN1222304A | 申请公布日期 | 1999.07.14 |
申请号 | CN98124675.3 | 申请日期 | 1998.10.07 |
申请人 | 犹金·R·提普曼 | 发明人 | 犹金·R·提普曼 |
分类号 | A21B1/40 | 主分类号 | A21B1/40 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 吴明华 |
主权项 | 1、一种均温烹调器包括:一烹调介质室,包括一基本为平面的顶烹调面、一底面及侧壁;一包含在所述烹调室内用于加热所述顶烹调面的加热介质;一用于加热所述加热介质的加热装置;以及一用于控制所述顶烹调面的温度的控制装置。 | ||
地址 | 美国印第安纳州 |