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发明名称 Projection exposure apparatus and microdevice manufacturing method using the same
摘要
申请公布号 EP0737898(B1) 申请公布日期 1999.07.14
申请号 EP19960302526 申请日期 1996.04.10
申请人 CANON KABUSHIKI KAISHA 发明人 MORI, TETSUYA,;KOSUGI, MASAO,
分类号 G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F9/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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