| 主权项 |
1.一种基板处理装置,主要对于基板进行处理者,具备有:用以在前述基板处理装置内进行搬运基板之搬运臂;被配设于前述搬运臂上,用以支撑基板的支撑构件;及配备于前述基板处理装置内,用以洗净前述支撑构件的先净机构。2.如申请专利范围第1项所述之基板处理装置,其中洗净机构乃配备于收容基板用之卡匣下方。3.如申请专利范围第1项所述之基板处理装置,其中具备有移动前述搬运臂直至前述洗净机构位置为止用之驱动手段。4.如申请专利范围第1项所述之基板处理装置,其中前述洗净机构可移动至前述搬运臂近旁。5.如申请专利范围第1项所述之基板处理装置,其中前述洗净机构具备用以供应气体给予前述支撑构件的气体供应手段。6.如申请专利范围第1项所述之基板处理装置,其中前述洗净机构乃具备有,用以供应洗净液给予前述支撑构件的洗净液供应手段,及吸引来自支撑构件之洗净液的手段。7.如申请专利范围第1项所述之基板处理装置,其中前述洗净机构乃具备有,用以供应洗净液给予前述支撑构件的洗净液供应手段,及以与前述支撑构件接触来洗净前述支撑构件之洗净构件。8.如申请专利范围第7项所述之基板处理装置,其中洗净构件为刷子。9.如申请专利范围第7项所述之基板处理装置,其中洗净构件为渗透有洗净液之海绵。10.如申请专利范围第7项所述之基板处理装置,其中洗净构件为渗透有洗净液之布状物质。11.如申请专利范围第7项所述之基板处理装置,其中在洗净机构之前面具备有形成清净气体朝下方流动的机构。12.一种基板搬运方法,主要在对于基板实施处理时,以具有支撑前述基板用之支撑构件的搬运臂来搬运前述基板者,其特征为具备有:会在前述支撑构件与基板接触之前或予以接触之后,方加以洗净前述支撑构件之过程。13.如申请专利范围第12项所述之基板搬运方法,其中具备有:移动前述搬运臂至洗净机构内之过程;及在前述洗净机构内洗净前述支撑构件之过程。14.如申请专利范围第12项所述之基板搬运方法,其中具备有:移动洗净机构至前述搬运臂近旁之过程;及以前述洗净机构来洗净前述支撑构件之过程。15.如申请专利范围第12项所述之基板搬运方法,其中有关洗净前述支撑构件系以喷出气体至前述支撑构件来进行者。16.如申请专利范围第12项所述之基板搬运方法,其中有关洗净前述支撑构件系以供应洗净液给予前述支撑构件之同时,令洗净构件接触于前述支撑构件来进行者。17.如申请专利范围第12项所述之基板搬运方法,其中有关洗净前述支撑构件系以接触渗透有洗净液之物体接触于前述支撑构件来进行者。18.如申请专利范围第17项所述之基板搬运方法,其中具备有在进行洗净前述支撑构件之前,予以喷上清净气体至支撑构件之过程。19.如申请专利范围第17项所述之基板搬运方法,其中具备有在洗净前述支撑构件之后,予以喷上清净气体至支撑构件之过程。图式简单说明:第一图系显示装配有做为本发明对象之基板处理装置的抗蚀剂涂敷显像系统之斜视图。第二图A及第二图B系用以说明本发明之基板处理装置的洗净机构之位置用之予以简略化的平面图及侧面图。第三图系本发明之基板处理装置之洗净机构予以简略化的正面图。第四图系显示在本发明之基板处理装置之洗净机构中,要洗净搬运臂之状态的斜视图。第五图系显示在本发明之基板处理装置的搬运臂上之支撑构件的予以简略化之侧面。第六图A及第六图B系个个本发明之基板处理装置之洗净机构的主要部分正面图。第七图系本发明之基板处理装置之其他洗净机构例之主要部分侧面图。第八图系显示第七图之洗净机构的动作之主要部分侧面图。第九图系显示第七图之洗净机构的动作之主要部分侧面图。第十图系本发明之基板处理装置之其他洗净机构例之主要部分侧面图。 |
