| 主权项 |
1.一种乙烯之氧氯化反应以产生1,2-二氯乙烷(EDC) 之方 法,其包括在触媒存在下,使乙烯、氯源及氧源在 固定床 氧氯化反应器中反应,该反应系在不超过285℃之温 度下 及最高可达20巴之压力下进行,其特征在于使用一 种双反 应器系统,并且该触媒是一种氯化铜触媒,其载于 矾土、 矽胶或铝矽酸盐之上,其活性分布系经安排以致使 该试剂 流动首先接触高活性触媒之第一层,接着接触低活 性触媒 之第二层,最后接触高活性触媒之第三层,该第一 层占所 有触媒床之1至5%且与其它触媒层相比具有相对活 性1,该 第二层占触媒床之20至50%且具有相对活性界于0.3 与0.6 之间,及该第三层具有相对活性界于1.1与1.2之间。 2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该第三个触 媒层 是一种含有多个触媒层之经分布触媒,其中该活性 系沿着 试剂流动之方向增加。3.根据申请专利范围第1或2 项之方法,其中该触媒之活性 系分布在两个反应器之每一个中。4.根据申请专 利范围第1或2项之方法,其中该触媒亦含有 促进剂,如钾、镁、铯、锂、钠、钙及铈之氯化物 。5.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中经喂 至该反应 之总氧源,其中40与60%之间系喂至第一个反应器。6 .根据申请专利范围第1或2项之方法,其中经喂至该 反应 之总氧源,其中40与100%之间系喂至第一个反应器。 7.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中从第二 个反应 器排出之废气系至少部份再循环至第一个反应器 。8.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中该反 应系于压 力介于4与7巴之间进行。图式简单说明:第一图系 表示本 发明之二反应器系统的示意图。 |
