| 发明名称 |
SINGLE CRYSTAL SILICON WAFER AND HEAT TREATMENT METHOD THEREOF |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11186277(A) |
申请公布日期 |
1999.07.09 |
| 申请号 |
JP19970364142 |
申请日期 |
1997.12.17 |
| 申请人 |
SHIN ETSU HANDOTAI CO LTD |
发明人 |
ABE TAKAO;KOBAYASHI NORIHIRO;KATO MASAHIRO |
| 分类号 |
C30B33/02;C30B33/00;H01L21/02;H01L21/26;H01L21/322;H01L21/324;(IPC1-7):H01L21/324 |
主分类号 |
C30B33/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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