发明名称 PROCESS FOR PRODUCING A POROUS LAYER BY AN ELECTROCHEMICAL ETCHING PROCESS
摘要 Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer porösen Schicht mit Hilfe eines elektrochemischen Ätzprozesses. Dabei wird eine den erwünschten Verlauf der Tiefenätzrate entsprechende Ätzmaske eingesetzt. Als eine solche Ätzmaske kann zur Bildung eines kontinuierlichen Verlaufs der Tiefenätzrate diese keilförmig ausgebildet gewählt werden.
申请公布号 WO9934421(A1) 申请公布日期 1999.07.08
申请号 WO1998DE03775 申请日期 1998.12.22
申请人 FORSCHUNGSZENTRUM JUELICH GMBH;ARENS-FISCHER, RUEDIGER;BERGER, MICHAEL;KRUEGER, MICHAEL;THOENISSEN, MARKUS;LUETH, HANS 发明人 ARENS-FISCHER, RUEDIGER;BERGER, MICHAEL;KRUEGER, MICHAEL;THOENISSEN, MARKUS;LUETH, HANS
分类号 G02B1/11;C25F3/12;H01L21/306;H01L21/3063;H01L21/321;H01L33/34;H01S5/10;(IPC1-7):H01L21/306;H01L33/00 主分类号 G02B1/11
代理机构 代理人
主权项
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