反应磁控管溅射装置和方法

摘要

一种在基片上形成光学薄膜的方法和装置,该装置具有安装着传统磁控管溅射系统和异常高速真空泵的真空室。惰性气体的低压在5×10^－5乇至2.0×10^－4乇范围内,而磁控管溅射系统与所述基片相距至少20英寸。一气体总管将惰性工作气体限制在磁控管附近,当气体扩散和膨胀进入腔室时,高速真空泵将膨胀的气体高速抽出真空室。一离子枪将电离的反应气体射向基片,由此可改进薄膜的化学计量比,以及减少在磁控管处的反应气体。

主权项

1．一种在一基片上淀积溅射粒子、以形成低损耗光学涂层的方法，它包括以下步骤：将基片置于一真空室里，该真空室具有一溅射粒子的磁控管和源，以及部分地遮盖磁控管的惰性气体挡板，所述基片具有面向与其相距较长投射行程距离的所述源的表面；使磁控管工作，自所述源溅射粒子以在基片表面上涂敷，还包括将惰性气体引导至所述挡板；用高速高真空泵自真空室迅速抽取和减少惰性气体；以及使电离的反应气体对准基片表面，以便于反应涂敷，从而在基片表面形成低损耗光学涂层。