Electron-beam lithography system,申请号GB19990010391-传众专利搜索

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发明名称	Electron-beam lithography system
摘要
申请公布号	GB9910391(D0)	申请公布日期	1999.07.07
申请号	GB19990010391	申请日期	1999.05.05
申请人	ADVANTEST CORPORATION	发明人
分类号	G03F7/20;H01J37/147;H01J37/20;H01J37/305;H01J37/317;H01L21/027	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
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