DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR UTILISANT UN PHOTORESIST CONTENANT UN POLYMERE, ET PROCEDE DE FABRICATION DE CELUI-CI

摘要

L'invention se rapporte à un dispositif semi-conducteur utilisant un photorésist contenant un polymère, et à un procédé pour fabriquer celui-ci.Le monomère de l'invention est caractérisé en ce qu'il comprend un nouveau dérivé bicycloalcène représenté par la formule chimique II où R' et R" représentent indépendamment l'hydrogène, ou un groupe alkyle linéaire ou ramifié en C1 à C4 avec ou sans substituant (s), m représente un nombre de 1 à 8, et n représente un nombre de 1 à 6.Le monomère de l'invention trouve application dans la fabrication d'un polymère et d'un photorésist pour fabriquer un dispositif semi-conducteur.