发明名称 杂–双环醇对映物之立体选择性制法
摘要 本发明系有关一种立体选择性制备杂-双环醇对映物之方法,其特征在于下式之实质纯对映体CC (I)其中X为O、S、NH或N-(C1-C4)烷基;Y1和Y2各独立为氢或取代基,选自卤素、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、(C1-C4)卤烷基、甲醯基、硝基和氰基; C*-原子具R或S组态;系自下式之化合物 CC (Ⅱ)其中R1为氢或合适之保护基及R2为氢或其中R1和R2一起形成视情况单-或二-(C1-C3)烷基取代之伸甲基桥;由以下连续反应步骤制备:(i)与下式之化合物反应
申请公布号 TW363059 申请公布日期 1999.07.01
申请号 TW086100653 申请日期 1997.01.22
申请人 杜化国际研究公司 发明人 比拉夏狄;尼可拉斯布哲;克里斯G.库赛;克拉拉M.奇尼克
分类号 C07D265/36;C07D319/20 主分类号 C07D265/36
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种立体选择性制备杂-双环醇对映物之方法,其 特征 在于下式之实质纯对映体其中X为O、NH或N-(C1-C4)烷 基 ;Y1和Y2各独立为氢或取代基,选自卤素、(C1-C4)烷基 、(C1-C4)烷氧基(C1-C4)卤烷基、甲醯基、硝基或氰 基; C*-原子具R或S组态;系自下式之化合物其中:X、Y1和 Y2 其如上界定之相同意义;R1为氢或合适之保护基;R2 为氢 ;或其中R1和R2一起形成视情况单-或二-(C1-C3)烷基 取 代之伸甲基桥;由以下之连续反应步骤制备:(i)与 下式 之化合物反应其中:Z为羟基或合适之脱离基;R3为 羟基 保护基;R4为卤原子;或其中R3和R4一起构成共价键 或式 -C(R11)2-O-之二基,其中R11为直式或分支(C1-C4)烷基 ;C*-原子具R或S组态;在其反应后,形成下式之化合 物 其中:X、Y1.Y2.R3和R4具以上之意义;及R1为氢或保 护基;(ii)形成之化合物接受去保护/环闭合反应;( iii )环闭合产物之羟基之视情况去保护。2.根据申请 专利范围第1项之方法,其特征在于根据申请 专利范围第1项之式I之实质纯对映物,其中X为O,系 由下 式之儿茶酚衍生物其中:Y1和Y2具根据申请专利范 围第1 项给定之意义;及R5为合适之羟基保护基;与下式之 化合 物反应制备其中:R3和R4具以上之意义;及Z'为卤素 或磺 酸根脱离基,较佳地选自甲苯磺醯氧基、壬磺醯氧 基( nosyloxy)和甲磺醯氧基;在其反应后,得到具下式之 中 间物接受根据申请专利范围第1项界定之连续反应 步骤(ii )和(iii)。3.根据申请专利范围第1项之方法,其特征 在于根据申请 专利范围第1项之式I之实质纯对映物,其中X为O,系 由下 式之儿茶酚衍生物其中:Y1和Y2具根据申请专利范 围第1 项给定之意义;及R5'为羟基保护基,选自一群包括(C 1- C8)烷基羰基和芳基羰基,其中芳基视情况以一或多 个选 自一群包括(C1-C4)烷氧基和素之取代基取代;与下 式之 化合物反应制备其中:R3和R4具以上之意义;及Z'为 卤素 或磺酸根脱离基,较佳地选自甲苯磺醯氧基、壬磺 醯氧基 和甲磺醯氧基;在其反应后,得到具下式之中间物 接受环 闭合产物之羟基之去保护。4.根据申请专利范围 第1项之方法,其特征在于根据申请 专利范围第1项之式I之实质纯对映物,其中X为NH或N -(C1 -C4)烷基,系由下式之化合物其中:Y1和Y2其根据申请 专 利范围第1项给定之意义;及R5'为合适之胺基保护 基;R6 为氢或(C1-C4)烷基;与下式之化合物反应制备其中:R 3 和R4具以上之意义;及Z'为卤素或磺酸根脱离基,较 佳地 选自甲苯磺醯氧基、壬磺醯氧基和甲磺醯氧基;在 其反应 后,形成其下式之中间物接受环密合产物之羟基之 去保护 。5.根据申请专利范围第1项之方法,其特征在于根 据申请 专利范围第1项之式I之实质纯对映物,其中X为O,系 由下 式之苯并二氧五圜化合物其中:Y1和Y2具根据申请 专利范 围第1项给定之意义;及R7和R8各独立为氢或甲基;与 下 式之对掌积木反应制备其中:R11为直式或分支(C1-C4 )烷 基;C*-原子具R或S组态;在其反应后,得到其下式之 中 间物接受根据申请专利范围第1项界定之反应步骤 ii)。6.根据申请专利范围第1.2.4或5项之方法,其特 征在于 环密合反应(ii)系在非极性有机溶剂中藉相转移触 媒之助 进行。7.一种在根据申请专利范围第1项之方法中 作为中间物之 对映纯化合物,具下式其中:Y1.Y2.X、R3和R4具根据 申请专利范围第1项给定之意义,及R1具根据申请专 利范 围第1项给定之意义;C*-原子具R或S组态。8.一种在 根据申请专利范围第3项之方法中作为中间物之 对映纯化合物,其下式其中:Y1和Y2具根据申请专利 范围 第1项给定之意义,及R5'具根据申请专利范围第3项 给定 之意义;C*-原子具R或S组态。9.一种制备根据申请 专利范围第7项界定之式IV之化合物 之方法,其特征在于下式之化合物其中符号具根据 申请专 利范围第1项给定之意义;系与下式之化合物反应 其中符 号亦具根据申请专利范围第1项给定之意义。10.一 种制备根据申请专利范围第8项界定之式VlIa之化 合 物之方法,其特征在于下式之化合物其中符号具根 据申请 专利范围第3项给定之意义;系与下式之化合物反 应其中 符号亦具根据申请专利范围第2项给定之意义。11. 一种制备用于根据申请专利范围第2项之方法中及 具下 式之儿茶酚衍生物之方法其中:Y1和Y2其根据申请 专利范 围第1项给定之意义,及R9为视情况取代之醯基,(C 1- C4)烷基羰基或三(C1-C4)烷基矽烷基;由下式之取代 儿茶 酚其中:Y1和Y2具以上之意义,及p和q为0或1;与下式 之 化合物反应(R9')2O或R9'Hal或(R14)3SiHal其中:R9'为 视情况取代之醯基或(C1-C6)烷基羰基;R14为(C1-C4) 烷基;及Hal为卤素;在有机较佳地第三胺或有机 之 混合物,以触媒量之存在下;其特征在于反应系在 非极性 有机溶剂中或无溶剂下进行,在其后,得到具下式 之化合 物连续接受芳族卤化、甲醯化或硝化反应,以将取 代基Y1 和Y2导入芳族核中,在需要时及接受硝化。12.一种 在根据申请专利范围第5项之方法中作为中间物之 化合物,其下式其中:Y1和Y2具根据申请专利范围第1 项 给定之意义;及R7和R8各独立为氢或甲基。13.一种 制备具根据申请专利范围第12项界定之式XI之化 合物之方法,其特征在于具根据申请专利范围第11 项界定 之式XV之儿茶酚化合物系由以下之反应步骤转换,( i)选 择性保护一个游离羟基;(ii)视情况导入取代基Y1和 Y2之 一或两者;(iii)选择性硝化邻于未取代羟基之位置; (iv )将保护之羟基去保护;(v)由与下式之化合物反应 形成苯 并二氧五圜部分其中:R7和R8具根据申请专利范围 第12项 给定之意义;R9和R10各独立为氯、溴或(C1-C4)烷氧基 或 一起形成氧原子。
地址 荷兰