发明名称 Verfahren zur Herstellung einer porösen Schicht mit Hilfe eines elektrochemischen Ätzprozesses
摘要 In a process for producing a porous layer by an electrochemical etching process, an etching mask which corresponds to the desired course of the deep-etching rate is used. For the course of the deep-etching rate to be continuous, a wedge-shaped etching mask can be selected.
申请公布号 DE19757560(A1) 申请公布日期 1999.07.01
申请号 DE19971057560 申请日期 1997.12.23
申请人 FORSCHUNGSZENTRUM JUELICH GMBH, 52428 JUELICH, DE 发明人 ARENS-FISCHER, RUEDIGER, 52066 AACHEN, DE;BERGER, MICHAEL, 53343 WACHTBERG, DE;KRUEGER, MICHAEL, 52062 AACHEN, DE;THOENISSEN, MARKUS, 41334 NETTETAL, DE;LUETH, HANS, PROF., 52076 AACHEN, DE
分类号 G02B1/11;C25F3/12;H01L21/306;H01L21/3063;H01L21/321;H01L33/34;H01S5/10;(IPC1-7):C25F3/14 主分类号 G02B1/11
代理机构 代理人
主权项
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