用于制造半导体器件的显影系统及其控制方法

摘要

本发明提供制造半导体器件的显影系统,包括:容器,用于装显影剂,上侧有一供晶片通过的开孔,下侧有一排放口晶片传送器,可将晶片图形表面的背面朝下吸附,将晶片装入或取出容器;显影剂提供元件,在容器中提供显影剂,将晶片图形表面浸在显影剂中;一漂洗剂提供元件,向容器中提供漂洗剂,向晶片图形表面上喷射漂洗剂;清洗剂提供元件,向容器中提供清洗剂,除去保留在容器中的显影剂和漂洗剂;气体提供元件,向容器中提供气体,通过高压气体除去保留在容器中的清洗剂。

主权项

1．一种用于制造半导体器件的显影系统，包括：一容器，用于盛装显影剂，其上侧带有一供晶片通过的开孔，其下侧有一排放口；一晶片传送器，它通过开口将晶片图形表面的背侧朝下吸附，从而将晶片装入或取出容器；一显影剂提供元件，用于在容器的下侧上提供一定量的显影剂，从而将晶片的图形表面浸在显影剂中；一漂洗剂提供元件，用于向容器中提供漂洗剂，从而向晶片图形表面上喷射漂洗剂；一清洗剂提供元件，用于向容器中提供清洗剂，从而除去保留在容器中的显影剂和漂洗剂；一气体提供元件，用于向容器中提供气体，从而通过高压气除去保留在容器中的清洗剂。