| 发明名称 | 沸水反应器的锻造的整体式罩凸缘 | ||
| 摘要 | 一锻造的上罩段(200),其可以由一块矩形横剖面的环形锻件机加工而成,它包括一圆形凸缘(202)和一圆柱形罩壳(204)。在凸缘(202)上机加工出孔和缝槽(206),以便对正并支撑罩头。沿着圆柱形罩段(204)的内表面(210)机加工出一沟槽(208),该沟槽(208)可以用于支撑顶部引导隔栅。圆柱形罩段(204)的一端(212)机加工出一预备部分,用于连接罩的芯段。 | ||
| 申请公布号 | CN1221195A | 申请公布日期 | 1999.06.30 |
| 申请号 | CN98118543.6 | 申请日期 | 1998.08.31 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | 松本俊男杰克;A·B·法伊夫 |
| 分类号 | G21C19/00 | 主分类号 | G21C19/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 崔幼平;黄力行 |
| 主权项 | 1．一种沸水反应器(100)的罩(112)的锻造的上罩段(200)，所述上罩段(200)包括：一圆柱罩壳(204)；和在所述罩壳(204)的一端上的一圆形凸缘(202)，所述凸缘(202)与所述罩壳(204)成一体。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||