| 发明名称 |
DEPOSITION OF LOW RESISTIVITY TITANIUM OXYNITRIDE FILM DEPOSITED IN POSTSTATE GIVING EXCELLENT TEXTURE TO CONDUCTIVE LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11172414(A) |
申请公布日期 |
1999.06.29 |
| 申请号 |
JP19980208492 |
申请日期 |
1998.06.18 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LTD |
发明人 |
BRUCE DAVID GITTELMAN;BUU BYUI |
| 分类号 |
C23C14/06;C23C14/34;H01L21/203;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):C23C14/06 |
主分类号 |
C23C14/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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