发明名称 | 相位变化光记录介质 | ||
摘要 | 相位变化光学记录介质具有基片,和下热阻保护层,利用在记录层中的相位记录材料的相位变化进行记录和擦除信息的记录层,上热阻保护层和光反射和热耗散层,它们按这样的顺序依次覆盖在基片上,该记录材料包括Ag,In,Sb和Te作为主元素,至少一种附加元素选于组成组(1)的B,C,N,Al,Si和P和至少一种附加元素选自于组成组(2)的卤素原子和碱金属元素。 | ||
申请公布号 | CN1220446A | 申请公布日期 | 1999.06.23 |
申请号 | CN98126543.X | 申请日期 | 1998.11.28 |
申请人 | 株式会社理光 | 发明人 | 让原肇;芝口孝;出口浩司;针谷真人;筱塚道明;木下干夫;影山喜之;安倍通治 |
分类号 | G11B7/00 | 主分类号 | G11B7/00 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张志醒;王忠忠 |
主权项 | 1.相位变化光学记录介质包括基片,下热阻保护层,通过利用在所说记录层的相位变化记录材料的相位变化进行记录和擦除信息的记录层,上热阻保护层和光反射和热耗散层,这些层按此顺序依次覆盖在所说基片上,所说的记录材料包括:Ag,In,Sb和Te做为主元素;从组成组(1)的B,C,N,Al,Si和P中选定至少一种附加元素;和从组成组(2)的卤素原子和碱金属元素中选定至少一种附加元素。 | ||
地址 | 日本东京都 |