| 发明名称 | 用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜 | ||
| 摘要 | 公开了一种砂磨用的光敏组合物和具有包括该组合物的光敏层的光敏膜。所述光敏组合物包括至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物,光致聚合引发剂,和选自羟丙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素以及邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素的至少一种纤维素衍生物。该组合物显示出优良的与基片粘性、高感光度和高耐砂磨性。 | ||
| 申请公布号 | CN1220415A | 申请公布日期 | 1999.06.23 |
| 申请号 | CN98123405.4 | 申请日期 | 1998.10.14 |
| 申请人 | 东京応化工业株式会社 | 发明人 | 水泽龙马;中里俊二;带谷洋之 |
| 分类号 | G03F7/00 | 主分类号 | G03F7/00 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 白益华 |
| 主权项 | 1．一种砂磨用的光敏组合物，它包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)光致聚合引发剂，和(C)至少一种纤维素衍生物，它选自羟丙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素以及邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||