发明名称 Method of reducing generation of particulate matter in a sputtering chamber
摘要
申请公布号 SG65694(A1) 申请公布日期 1999.06.22
申请号 SG19970003872 申请日期 1997.10.27
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 NGAN, KENNY, K.
分类号 C23C14/34;C23C14/56;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/203;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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