| 主权项 |
1.一种用以分开至少一模子各部份之装置,该模子系由至少二模子部份所组成,且包括第一个模子部份与第二个模子部份,在该二模子部份内包括一个眼用镜片,该装置包括:用以在其间定位含有该眼用镜片之各模子部份之机构,这是经由在一个工作站夹住任一个或两个模子部份;一强烈之电磁辐射源,而至少该等模子部份之一之材料可充分吸收该电磁辐射,以致造成该材料温度之增加;引导来自该电磁辐射源之辐射撞击该等模子部份之一或二者外部表面之机构,该辐射引导机构包括扫描器机构,用以追踪该表面上方之预定图样,俾能对不同之表面积变化其辐射能量;和用以回应该等追踪图样控制该强烈辐射撞击于各模子部份上所持续时间之机构,以便在该辐射撞击之持续时间期间,造成控制该等模子部份表面积之一温度上升,此种撞击系来自该电磁辐射源之辐射。2.根据申请专利范围第1项之装置,其中该扫描器机构包括多数可在X-Y轴方位中移动之电流计驱动镜子,该辐射引导机构包括光学镜片机构,此光学镜片机构系置于该电磁辐射源与该等电流计驱动镜子之间,以便将该等电流计驱动镜子所反射之电磁辐射聚焦成一光束,朝向该等模子部份,而帮助一辐射图样之形成,并减少在薄镜片区域之能量,或减少由至少一模子或镜片材料所吸收之能量,这是经由回应一尖锐表面角度之存在而变化。3.根据申请专利范围第2项之装置,其中该等多数镜子包括二面镜子;第一个电流计系可操作地连接至该第一面镜子,用以在第一个方向驱动该面镜子;第二个电流计系可操作地连接至该第二面镜子,用以在第二个方向驱动该面镜子,俾能提供一X-Y轴扫瞄图样。4.根据申请专利范围第3项之装置,其中该微处理器机构系连接至该电流计,以便对该等镜子赋予预定之控制作动。5.根据申请专利范围第4项之装置,其中该微处理器机构是由电脑控制者。6.根据申请专利范围第2项之装置,其中该等镜子系由金属所制成。7.根据申请专利范围第6项之装置,其中该金属包括耐高能量之铍。8.根据申请专利范围第1项之装置,其中该扫描器机构使得吾人容易对多数该等镜片和模子施行连续之扫描,该等镜片和模子系在该工作站位于单一栈盘内。9.根据申请专利范围第1项之装置,其中该强烈之电磁辐射源是一雷射。10.根据申请专利范围第1项之装置,其中该辐射具有一个波长在大约1微米与大约20微米之间。11.根据申请专利范围第9项之装置,其中该雷射使得吾人容易利用一小雷射光点,用以追踪该等扫瞄图样。12.根据申请专利范围第11项之装置,其中该图样包括一个由该雷射光点所追踪之螺旋图样。13.根据申请专利范围第11项之装置,其中该图样包括一个由该雷射光点所追踪之棋盘花纹图样。14.根据申请专利范围第11项之装置,其中该雷射光点具有一大约0.8毫米之直径。15.根据申请专利范围第1项之装置,其中该定位机构将夹住该第一个模子部份,藉此夹住该第二个模子部份和附着至该处之镜片,且引导该电磁辐射源撞击该第二个模子部份之外部表面。16.一种用以分开至少一模子各部份之方法,该模子系由至少二模子部份所组成,且在该二模子部份内包括一个眼用镜片,该方法包括:在一固定物内夹住至少该等模子部份之一,藉此夹住该等在其间含有眼用镜片之模子部份;引导一强烈之电磁辐射源到至少该等模子部份之一之材料,并可充分地吸收该电磁辐射,以致造成该材料温度之增加;用该电磁辐射在一预定之扫描图样下撞击该等模子部份之一或二者外部表面,而该辐射系延伸于该等模子部份之各种表面部份上方;当以该辐射扫描该等表面图样时,控制该辐射撞击之持续时间,以便在该辐射撞击之持续时间期间,造成该强烈电磁辐射所撞击模子部份表面之温度上昇,但本质上不会使该眼用镜片之温度上昇;及在如此撞击之后分开该等模子部份。17.根据申请专利范围第16项之方法,其中该扫描器机构使得吾人容易形成一辐射图样,并减少在薄镜片区域之能量,或减少由至少该模子或镜片材料所吸收之能量,这是经由回应一尖锐表面角度之存在而变化。18.根据申请专利范围第16项之方法,其中该扫描器机构使得吾人容易对多数该等镜片和模子施行连续之扫描,而该等镜片和模子系位于单一栈盘内。19.根据申请专利范围第16项之方法,其中该电磁辐射包括雷射能。20.根据申请专利范围第19项之方法,其中该雷射能具有一个波长在大约1微米与大约20微米之间。21.根据申请专利范围第19项之方法,其中该雷射能包括一个已聚焦之雷射光点。22.根据申请专利范围第20项之方法,其中该雷射光点具有一大约0.8毫米之直径。23.根据申请专利范围第20项之方法,其中该雷射光点以一螺旋扫描图样追踪该表面。24.根据申请专利范围第20项之方法,其中该雷射光点以一棋盘花纹扫描图样追踪该表面。25.根据申请专利范围第21项之方法,其中该雷射光点系由一雷射光束所形成,该雷射光束系由可移动之电流计驱动镜子所引导。26.根据申请专利范围第25项之方法,其中该等电流计驱动镜子是由一个微处理器所控制,以便施行一X-Y轴之扫描图样动作。27.根据申请专利范围第16项之方法,其中该第一个模子部份系夹住于该固定物内,该电磁辐射系引导至该第二个模子部份,且随后与该电磁辐射相撞,并在该第二个模子部份与该第一个模子部份之间施加一张力,以便分离该二模子部份。28.根据申请专利范围第16项之方法,其中夹住于该固定物内之第一个模子部份系形成该眼用镜片之前凸表面,且由该电磁辐射所撞击之第二个模子部份系形成该眼用镜片之后弯表面。29.根据申请专利范围第16项之方法,其中该第一个模子部份系夹在该固定物内,该电磁辐射系引导至该第二个模子部份,且随后与该电磁辐射相撞,并由该第一个模子部份与该镜片撬开该第二个模子部份而分离之。图式简单说明:第一图为聚苯乙烯之辐射传送之一表示,而为红外线范围中波数之一函数;第二图为一个模制眼用镜片之一横断面视图,其包含于二模子部份之间;第三图大致示意地举例说明根据本发明之雷射扫描系统之光学系列装置和电流计驱动之聚焦镜子;第四图大致图解地举例说明一个固定装置之透视图,用以分开根据本发明之各模子部份;与第五图举例说明第四图固定装置之一侧视图,其显示位于该等模子部份已分开后之位置。 |
