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发明名称 Verfahren und Vorrichtung zur Plasma-unterstützten chemischen Dampfphasen-Abscheidung
摘要
申请公布号 DE69324849(D1) 申请公布日期 1999.06.17
申请号 DE19936024849 申请日期 1993.03.22
申请人 MITSUBISHI JUKOGYO K.K., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 MURATA, MASAYOSHI, C/O NAGASAKI RES. DEV. CENTER, 5-CHOME, NAGASAKI-SHI, NAGASAKI-KEN, JP;TAKEUCHI, YOSHIAKI, C/O NAGASAKI RES. DEV. CENTER, 5-CHOME, NAGASAKI-SHI, NAGASAKI-KEN, JP
分类号 C23C16/24;C23C16/509;H01J37/32;(IPC1-7):C23C16/50 主分类号 C23C16/24
代理机构 代理人
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