| 发明名称 | 掩模半成品和掩模的制造方法 | ||
| 摘要 | 在由石英构成的圆形衬底的一侧表面的整个面上,形成由铬构成的遮光膜。旋转衬底,在遮光膜的上面涂敷抗蚀剂。由于衬底是圆形,因此抗蚀剂通过离心力在遮光膜的整个表面均匀扩散。因而,抗蚀剂在遍布遮光膜的几乎整个表面上具有几乎均匀的膜厚。把该抗蚀剂进行图形化形成抗蚀剂图形,通过以该抗蚀剂图形作为掩模腐蚀遮光膜,能够形成尺寸精度良好的图形。 | ||
| 申请公布号 | CN1219754A | 申请公布日期 | 1999.06.16 |
| 申请号 | CN98122695.7 | 申请日期 | 1998.11.25 |
| 申请人 | 西门子公司;株式会社东芝 | 发明人 | 稗田克彦;托马斯·法西;安德里斯·格拉思曼 |
| 分类号 | H01L21/027;G03F7/00 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1．一种掩模半成品，包括：圆形的透光性衬底；形成在上述衬底的一侧表面的整个表面上的具有透光性的膜。 | ||
| 地址 | 联邦德国慕尼黑 | ||